艾司摩爾(ASML)及漢微科共同宣布雙方已簽署正式股份轉換契約，ASML將以現金收購漢微科全部流通在外股份，總交易金額約為新台幣1,000億元(以當前匯率折算約27.5億歐元)。ASML和漢微科將共同合作開發，為半導體製造商提升製程生產良率，提供解決方案。
ASML總裁暨執行長Peter Wennink表示，此次併購是為了使技術與設備更加精進，兩家公司合併後，透過雙方量測技術的互補，將能協助半導體製造商大幅強化製程控制並提高良率，且豐富產品組合、加速產品開發速度。
漢微科的執行長招允佳表示，本股份轉換案會加速兩間公司的技術發展進程，因此對於我們的客戶、員工、供應商和投資人來説，都是好消息。半導體產業向10奈米以下製程的推進及高階記憶體的製造，皆需技術創新，現在可透過提供漢微科及ASML的整合技術，取得致勝關鍵。
對於半導體製造商而言，10奈米以下及3D立體結構製程的製程技術及良率控制愈加困難。而預計推出的整合技術需要高密度、高解析度的量測技術以測量及控制半導體元件的效能；而立體半導體製程則需要高密度、高電壓反差的量測以控制立體結構產品性能。
漢微科的核心技術將增強ASML的全方位微影技術解決方案(包括微影曝光系統、運算微影及量測)，透過此三項關鍵技術解決方案，ASML可提供結合擴大製程容許範圍、控制及檢測等應用的產品。
不僅如此，電子束量測技術還可針對2D及3D圖案進行清楚的成像，ASML可藉此成像強化其設計及製程模擬模型，此項應用為運算微影之基石。經過詳細運算後，該模型可以引導光學及電子束量測機台到晶圓上最複雜、對於良率控制最為關鍵的圖案，以最具成本效益方式量測並掌握晶圓圖像的特性，最終，晶圓成像資訊與ASML的模型結合，可將ASML的曝光機調整至最適狀態。
此外，電子束檢測極紫外光(EUV)應用，將能支援ASML極紫外光微影系統平台效能的提升，而該平台將可用於2018年開始量產的下一代半導體製程。
