【65奈米光罩檢測系列(三)】檢測65奈米光罩缺陷 反射光與穿透光模式相輔相成

2007 年 03 月 29 日
在新電子251期中,已深入探討在65奈米製程中規畫缺陷的反射光與穿透光檢測模式,並提出通用於兩種檢測模式的缺陷偵測的建議規則。本期文章中,則在兩個圖案對圖案模式中,處理實際的產品光罩。  ...
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

提升研發/生產效率 熱影像儀助LED一臂之力

2010 年 07 月 22 日

封裝效能持續改進 覆晶內連線畫龍點睛

2010 年 08 月 09 日

感測器功耗/雜訊權衡傷腦筋 選對架構難題迎刃解

2016 年 12 月 31 日

產線自動化腳步不停 智慧氣動提升整體生產力

2021 年 11 月 18 日

追日/追風發電一舉兩得 百葉窗實現綠建築雙能源採集

2021 年 11 月 25 日

防水/防塵不妥協 IP67連接器聯線可靠度大增

2021 年 04 月 15 日
前一篇
恩智浦新一代雙極電晶體提升能源效率
下一篇
鉅景因應市場需求進軍手機MCP市場