益華近期宣布旗下多項數位、簽核(Signoff)及客製/類比工具已通過台積公司10奈米(nm)FinFET製程的V1.0版設計參考手冊(DRM)以及SPICE模型認證。同時，該公司與台積公司將繼續合作，朝向7nm的相關技術邁進。
Cadence資深副總裁暨數位及簽核與系統認證事業群總經理Anirudh Devgan表示，該公司的工具經過認證之後，系統和半導體廠商就可以用更快的速度，將採用先進製程技術的各種設計推出到市面上。透過該公司與台積公司更深入的合作，讓該公司可以與客戶有更多的互動，參與他們各種10nm的設計作業，並更進一步投入7nm的設計流程，以便讓客戶從這些尖端的製程技術中獲得較大的優勢。
這些Cadence客製/類比、數位及簽核工具均在台積公司的高效能參考設計中進行驗證，可以提供客戶各種創新的方法，以便達成台積公司7nm與10nm製程所帶來的各項優勢，進而達到更高的效能、更低的耗電以及更小的產品面積。
除了獲得台積公司10nm製程認證的工具之外，Virtuoso Liberate特性解決方案及Virtuoso Variety統計特性解決方案也都經過其認可，因此可提供精確的Liberty資料庫，並透過Liberty 變化格式(LVF)模型所需要的各種創新方法。而各種電子遷移模型，則可以使用於超低耗電量的應用中。
益華網址：www.cadence.com
