Qcept日前宣布全球兩家大規模且總部位於亞洲的半導體製造商，已採購並安裝Qcept的ChemetriQ 5000非光學可視性缺陷(NVD)檢測系統。不論是提供有無圖案化(pattern)的晶圓，ChemetriQ 5000都能檢測出NVD，因此可用於廣泛工具與在線檢測應用，以提高良率學習速度，並讓業者能維持更高且持續的良率。
Qcept執行長Bret Bergman表示，非常高興ChemetriQ 5000系統在上一季獲得顧客迅速的採用。半導體製造商正體認到NVD檢測日益成長的重要性，選擇Qcept協助業者強化其良率管理的策略，以確保達到最佳化的元件良率。該公司期盼繼續與這些及其他客戶合作，協助業者解決各種NVD上的挑戰，改進其良率並提高其晶圓廠獲利能力。
其中一家客戶已採購多部ChemetriQ 5000系統，用於監測3X奈米的記憶體與邏輯產品晶圓。第二家客戶則購買一部ChemetriQ 5000系統用於監測3X奈米記憶體晶圓。這些系統將運用於客戶生產晶圓廠中的多種應用，其中包括淨後檢測、監視反應式離子蝕刻製程(RIE)及監視溼淨製程。
在3X奈米與更小的設計節點方面，業界透過新的材料與元件結構，加上運用傳統的微影製程，可提升半導體元件的效能。業者採用這些新材料與結構時，需要極精準地控制晶圓的洗淨以及進行表面預處理，因此這些製程對於元件良率的重要性也隨之升高。晶圓洗淨與表面預處理是晶圓廠中重複次數最多的步驟，每片晶圓須重複進行高達一百次，因此有許多機會出現非最佳的洗淨製程，導致在這些先進的設計節點上會出現嚴重的良率損耗。
ChemetriQ 5000平台能針對非最佳洗淨作業所造成的NVD，提供快速、全晶圓、NVD在線檢測功能如有機與無機的殘餘物、金屬污染以及製程引發的充電–這些因素都可能導致嚴重的良率損失，但若採用光學檢測系統則無法檢測出這些缺陷來源。此平台採用一種創新的非破壞性技術來檢測晶圓表面上的功函數變化。強化的偵測演算法加上更高的定位準確度，進一步提升ChemetriQ 5000的效能，不論晶圓是否已經進行微影圖案化，都能偵測出各種非光學可視性缺陷。
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