侵權/迴避設計不可輕忽 專利布局成顯學

作者: 趙鴻儒
2009 年 09 月 27 日
產業界侵權訴訟案件屢見不鮮,除了更加突顯專利權布局的重要性之外,同時也提高產業界對於保護專利權和避免侵犯他人專利權的認知需求,其中,專利侵權與迴避設計皆為專利權布局的基本前提,也是各家廠商必須深入了解的智慧財產權知識。
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

智財權意識高漲 專利申請範圍過猶不及

2009 年 12 月 20 日

瞄準先進製程IC設計商機 EDA廠強化IP產品組合

2013 年 04 月 27 日

ADAS普及指日可待 影像/雷達感測喜迎大商機

2017 年 09 月 01 日

誓言走出自家風格 R&S投入主流示波器市場

2010 年 08 月 09 日

手機廠擴大導入 AMOLED小尺寸應用放異彩

2014 年 03 月 27 日

搭上USB Type-C風潮 DisplayPort重獲發展動能

2015 年 11 月 21 日
前一篇
In-Stat:消費者對3D顯示興味盎然
下一篇
英飛凌ORIGA驗證晶片採Intel vPro技術