日本光阻材料製造大廠JSR株式會社與比利時微電子研究中心(IMEC)日前共同簽署合作意向書(Letter of Intent, LOI)，將攜手成立合資公司，研發生產下一代極紫外光微影(EUV Lithography)光阻(Photoresist)解決方案，以迎合下世代製程技術需求，期能為半導體產業實現EUV微影材料製造和品質控制。
IMEC總裁暨執行長Luc Van den hove表示，長期以來，JSR一直是IMEC的重要策略夥伴，此次合作讓雙方關係更為緊密，並可建一個中立且開放的創新研發平台，使EUV相關供應商在製程步驟和模組發展的早期階段更深入的參與。此外，藉由JSR生產設備和IMEC技術平台間更為緊密的合作，也可讓我們的合作夥伴能在下一代微影技術中採用最好的材料。
JSR總裁Nobu Koshiba指出，EUV微影是實現半導體摩爾定律(Moore’s Law)的必備技術，因此該公司不斷投注心力在該領域的研發，以滿足產業需求；不只已成功研發化學放大(Amplified)光阻劑，全新設計的化學材料也具備極高的敏感度(Sensitivity)和良好的生產力。除此之外，JSR也將技術擴展至周邊材料，例如多層材料。
Koshiba進一步談到，半導體產業正迫切需要材料供應商準備好製造的基礎設施，以及無缺陷(Defect-Free)微影技術方案的品質控制能力，同時還必須提高光阻劑的性能，以與EUV曝光設備相匹配。
EUV微影技術被視為是將摩爾定律延長至單位數(Single Digit)奈米(nm)技術節點的主要驅動力。IMEC和JSR的合作，可讓雙方在開發光阻解決方案時發揮各自優勢，JSR將提供合資公司其製造技術，並透過安裝製造和分析設備，為其在比利時的全資子公司–JSR Micro的設備升級；IMEC則將為合資公司提供材料品質控制的專業技術和服務。除了JSR光阻劑的製造外，該合資公司也將採取機密性保護方式，提供其他材料供應商付費生產的製造能力。
