先馳得點 聯電65奈米eFlash製程問世

作者: 王智弘
2010 年 11 月 23 日

搶在台積電之前,聯電日前率先與合作夥伴美高森美(Microsemi)共同發布首款採用65奈米嵌入式快閃(Embedded Flash, eFlash)製程技術生產的現場可編程閘陣列(FPGA)平台,讓eFlash製程技術順利邁入65奈米世代,對其未來進一步拓展汽車、工業、醫療及航太等半導體市場將大有幫助。
 


美高森美系統單晶片產品事業群資深行銷及業務副總裁Jay Legenhausen表示,65奈米eFlash技術對該公司產品安全性、可靠性與整合度的提升均大有助益。





甫於日前收購愛特(Actel))的美高森美系統單晶片(SoC)產品事業群資深行銷及業務副總裁Jay Legenhausen表示,相較前一代技術,該公司採用聯電65奈米eFlash製程的新一代FPGA平台,在邏輯密度、效能及功耗表現上均更為出色,因而能滿足工業、醫療、軍事、航太、通訊和消費市場更多的設計要求。
 



目前,美高森美已自聯電成功取得首個矽晶圓樣品,並著手與商業和工業市場的特定客戶展開先導計畫,全力協助這些客戶順利進行導入設計。
 



事實上,在尚未被美高森美購併前,愛特便與聯電在eFlash製程上擁有相當密切的合作關係,該公司採用130奈米eFlash製程開發的IGLOO低功耗FPGA即是由聯電所生產。此次,聯電一舉將eFlash製程推進至65奈米,不論對該公司或半導體業界而言,均具有重大意義。
 



據了解,包括台積電與意法半導體(ST)先前也都公開表示已投入65奈米及55奈米eFlash技術開發。台積電係於2009年底與英飛凌(Infineon)宣布將共同研發65奈米eFlash製程,以開發符合更嚴苛品質要求的車用微控制器(MCU)及更高安全性的晶片卡,預計將於2012年下半年完成相關產品與製程驗證工作;而意法半導體則是投入55奈米eFlash製程研發,同樣也將用於車用MCU生產,預計2011年中可開始提供樣品。

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