摩爾定律續命丹 ASD/DSA解電路圖形化瓶頸

作者: Judith Cheng
2023 年 03 月 30 日
半導體製程持續挺進個位數字奈米節點,為達成摩爾定律的微縮進度,儘管微影技術不斷有所突破,無論是透過各種手段將浸潤式微影解析度推至極限,採用波長更短、技術也日益成熟的極紫外光(EUV)光源微影以實現更高解析度,或是利用分次曝光提升線路密度的多重圖形(Multiple...
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

供應鏈業者競相投入 3D IC/先進製程量產倍道兼行

2011 年 10 月 13 日

Brewer Science發布先進節點晶圓曝光製程解決方案

2018 年 03 月 12 日

電子材料市場成長可期 OLED相關需求明顯增加

2017 年 11 月 14 日

DSA將成3奈米製程重頭戲 默克持續加碼投資台灣

2020 年 09 月 29 日

中國半導體技術匍匐前進 試圖打破西方封鎖(1)

2024 年 09 月 05 日

中國半導體技術匍匐前進 試圖打破西方封鎖(2)

2024 年 09 月 05 日
前一篇
成本低/損耗少/效率高 IGBT輕鬆實現AC頻率轉換
下一篇
凌華/亞旭/泰雅攜手打造MicroRAN 5G專網方案