晶圓製程邁向7奈米 EDA業者快步跟上

作者: 黃繼寬
2017 年 03 月 22 日

隨著一線晶圓代工業者的7奈米製程即將陸續進入試產、量產階段,電子設計自動化(EDA)也快速跟上,針對7奈米及12奈米製程提供各種對應解決方案。EDA業者明導國際(Mentor Graphics)宣布,該公司的Calibre設計工具平台,包含設計規範檢查(DRC)、多重曝光(Multi-Patterning)、布局繞線(P&R)工具等,已通過台積電的12奈米FFC及7奈米V1.0製程認證。Calibre現在已可支援最新的TSMC 12FFC製程設計協助客戶的設計。此外,AFS電路驗證平台,包括AFS Mega,技術已成熟(readiness)可支援12FFC技術與台積電建模介面(TMI)。

對於台積電 7奈米製程,完整的Calibre實現套件現已更新至V1.0版本,適用於客戶的生產設計交付製造。歷經數回的改版發表,台積電與明導持續合作提升Calibre DRC 執行效能。目前的V1.0版本與初期的版本相比,執行速度已顯著提升。

可靠度是現今許多電子產品成功的關鍵因素。台積電與明導國際擴展其合作關係至7奈米製程,可提供完備的靜電放電(ESD)與閂鎖(latch-up)問題驗證,這些都會對可靠的效能與產品使用壽命帶來影響。此合作關係也造就了Calibre PERC工具中的多CPU運算功能發展,能被用來進行全設計的點對點(P2P)阻抗和電流密度(CD)檢查。

工程變更指令(ECO)通常都會在設計流程的後期才發生,而影響了交付製造的時程。為了加速雙方客戶達到設計收斂的能力,台積電與明導國際合作,擴展Calibre YieldEnhancer ECO填充流程從20奈米一直到最新的7奈米技術。ECO填充流程能讓客戶快速管理最後階段的設計變更,並確保變更仍能符合台積電的製造需求。

AFS平台,包括AFS Mega電路模擬器,已通過台積電7奈米V1.0製程認證。全球領先半導體業者的類比、混合訊號與RF設計團隊都將獲益於採用AFS平台,以有效地驗證使用台積電的最新技術所設計的晶片。

明導的Nitro-SoC P&R平台已進一步增強,可滿足台積電7奈米設計實現與認證的所有需求。明導還展現了其7奈米技術的成熟度,透過利用Nitro-SoC P&R平台成功地建置了ARM處理器,現已可供客戶使用。

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