3D IC設計挑戰剖析

缺乏EDA工具支援 3D IC設計進展牛步

作者: 羅崑崙
2010 年 01 月 18 日
目前3D IC整合技術的研發仍以製程技術為主,而矽穿孔(Through-silicon-via, TSV)更是其中最熱門的技術之一,由於TSV可以讓同樣尺寸的晶片封裝內容納更多的電晶體,亦可有效縮短各元件之間的連線長度,提升效能,因此受到矚目。
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