英特爾在美國奧勒岡州的Ronler Acres Campus，啟動斥資30億美元的擴廠項目，並將新的園區命名為Gordon Moore。根據外媒Venture Best報導，英特爾D1X工廠新增的空間約為27萬平方英尺，大幅增加工廠規模。
英特爾CEO Pat Gelsinger強調，在美國當地擁有製造技術與產能的重要性提升，且D1X工廠有助於加速實現IDM 2.0藍圖。奧勒岡州作為英特爾在全球半導體的研發核心，新的園區能夠為英特爾的發展提供巨大的幫助。執行副總裁暨技術開發總經理Ann Kelleher則表示，英特爾製程技術的創新都來自於在奧勒岡州的研發工作，因此隨著建立D1X工廠，該廠區已經準備好提供新一代的技術。2021年，英特爾公布了詳細的製程技術藍圖，期望能加速技術創新，為2025年及未來的產品提供創新動能。新技術規畫包含新的電晶體架構RibbonFET、背部供電方案PowerVia，以及採用High NA EUV的微影設備。
半導體代工領域蓬勃發展，面對三星、台積電等代工廠商的競爭，英特爾加緊研發新一代先進製程與擴產的腳步，先在歐洲投資330億歐元建立研發與設計中心，強化在歐洲的晶片供應布局，隨後便在美國奧勒岡州建立D1X工廠。英特爾一連串的部署除了積極追趕競爭對手，同時展現英特爾對於晶片供應鏈在地化的重視程度，透過投資與設廠確保英特爾在美國與歐洲晶片供應的穩定與彈性。
