默克近日宣布推出用於光刻製程的全新系列環保化學品，此產品藉由默克在半導體製造先進材料方面的成熟專業知識，提供了關鍵解決方案。AZ Remover 880光阻去除劑是默克採用全新配方、非基於會危害環境的NMP(N-甲基吡咯烷酮)化學品系列中的第一款產品，可滿足5G和先進晶圓級封裝製程技術的需求，並克服掀離(Lift-Off)製程中的線寬縮小的極限，以及良率和成本的挑戰。
針對MEMS、汽車、IC電源和晶圓級封裝器件市場，AZ Remover880光阻去除劑及即將推出的配套產品為基於NMP的高毒性化學品提供了替代解決方案。這種創新產品可以溶解負型和正型光阻劑，而不是像目前基於NMP的產品一樣將光阻劑從晶圓表面剝離。這是一種新穎的方法，可將去除過程時間縮短一半，延長化學品的使用壽命，並使晶片製造商在發展先進CPU產品時，無需使用昂貴的高端去除劑即可獲得顯著改進。
默克半導體科技事業全球產品經理Alberto Dioses表示，只需一加侖的AZ Remover880去除劑，用戶就可以清潔250多片有80%光阻劑覆蓋的8英寸晶圓。使用具有NMP化學品不僅無法達到此效果，還需要更長的去除時間，並會在浴槽中留下大量的光阻劑，因此增加了製程的成本和復雜度。
