Advanced Energy新RF電源供應器滿足半導體製程需求

2021 年 01 月 26 日

Advanced Energy推出一款全新的Paramount HP 10013射頻電源供應器。新產品推出之後,該公司旗艦產品Paramount射頻(RF)電源供應器系列將會有更多型號可供選擇。

Advanced Energy的電漿製程設備電源系統適用於半導體蝕刻、介電質蝕刻、沉積、濺鍍、離子植入等半導體和電漿薄膜製程設備,Paramount HP 10013沿用這種電漿製程電源技術,但效能則有進一步的提升,例如:Paramount HP 10013可確保Paramount 13.56MHz平台提供高達10kW的輸出功率,優點是能以較低的平均功率提供高能脈衝,以確保脈衝功率的準確性和可重複性。較高的功率可提升電漿密度和離子能量,以便支援更快更深的電漿蝕刻製程步驟以及縮短沉積製程時間,以滿足先進的高深寬比蝕刻製程和新一代應用的要求。

Advanced Energy半導體及運算產品資深副總裁Peter Gillespie表示,目前市場上的許多產品幾乎全部都要採用積體電路。按照這個發展趨勢看,高精度製程設備電源系統的應用將會越來越廣泛。產業必須滿足這些不斷增加的需求,克服各式各樣的挑戰。Advanced Energy的Paramount產品系列採用脈衝射頻技術,是可量產的全數位射頻電源供應系統。

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