AI應用推升DRAM性能需求 美光1γ製程DDR5記憶體開始送樣

作者: 黃繼寬
2025 年 02 月 26 日

美光(Micron)宣布,其基於第六代10奈米等級1γ(1-gamma)製程節點的DDR5記憶體已經進入樣品階段,超微(AMD)及英特爾(Intel)等伺服器與PC平台業者,都已開始評估美光最新一代的DDR5產品。1γ製程節點不僅延續了該公司在1α與1β技術上的領先成就,更是DRAM產業的一大里程碑。基於1γ製程的16Gb DDR5記憶體,資料傳輸速率可高達9200MT/秒,比前一代產品的資料傳輸速率,與前代相比提升約15%,其功耗則比前一代減少超過20%。效能與能源效率的提升,不僅能滿足資料中心及邊緣裝置對高速運算的需求,也為AI工作負載提供了強有力的支援。

美光宣布其基於1γ製程的DDR5記憶體樣品已進入送樣階段。透過製程升級,美光的DDR5在效能、功耗與位元密度上,均獲得大幅改善

 

美光副總裁暨運算與網路事業部 運算產品事業群總經理Praveen Vaidyanathan表示,1γ製程是DRAM產業一個重要的里程碑。基於美光1γ製程的新一代DDR5記憶體,不僅傳輸速率與前代相比提升約15%,同時功耗也降低了20%。對於迫切需要提高效能、降低功耗的AI應用而言,採用基於1γ製程的DDR5記憶體,可以帶來極大的效益。同時,從供應鏈的角度,使用EUV微影技術的1γ DDR5記憶體,具有更高的位元密度。1γ節點能夠使每片晶圓的位元產出增加超過30%。這意味著在面對全球記憶體需求急速增長的同時,美光能夠大幅擴大供應能力,為市場提供充裕的記憶體資源。

美光在經過多代驗證的DRAM技術和製造策略的基礎上,造就出此一最佳化1γ節點的誕生。1γ DRAM節點的創新得益於CMOS技術的進步,包括下一代高介電質金屬閘極技術的進展,可提高電晶體效能以獲得更佳速度能力、設計最佳化和特徵尺寸的微縮,帶來節能和效能擴展的優勢。此外,透過結合EUV微影技術、高縱橫比蝕刻技術與設計創新,1γ為業界提供更優異的位元密度。同時,透過開發1γ節點及全球製造據點的生產布局,美光可為業界提供更卓越的技術和強大的供應韌性。美光位於日本及台灣的晶圓廠,都將生產採用1γ製程的DDR5記憶體。

超微伺服器平台解決方案工程部門企業副總裁Amit Goel表示,超微樂見美光在1γ DRAM節點方面的進展,並已開始對美光1γ DDR5記憶體進行驗證。超微致力於推動運算生態系統發展,不管是在伺服器端或PC端。所以與美光保持密切合作非常重要。

英特爾記憶體與IO技術副總裁暨總經理Dimitrios Ziakas則指出,美光1γ DRAM節點的進展為,英特爾伺服器和AI PC帶來了穩固的功耗和能量密度改善,我們很高興能看到美光在DRAM技術上的持續創新,同時也期待其技術為伺服器系統帶來效能與PC電池壽命提升。 Intel正為美光1γ DDR5記憶體樣本進行嚴格的伺服器驗證流程,期待為客戶提供具最高品質和一流體驗的伺服器系統。

 

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