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光源功率/光罩檢測大有斬獲 EUV微影商用有眉目

文‧Kurt Ronse 發布日期:2015/08/03 關鍵字:LEDCOBPWMTRIAC

隨著台積電成功以更高功率的掃描光源運行極紫外光(EUV)微影系統,加上IMEC與EIDEC發布新的光罩基板檢測工具研究成果,EUV微影設備吞吐量(Throughput)及生產良率已逐漸達到晶圓廠量產標準,並有望在10奈米以下製程商用。

成功拉升光源功率 台積電推進EUV量產 

顯而易見,這一次的SPIE先進微影技術研討會聚焦EUV微影方案,整體而言,技術發展腳步也較去年樂觀。前幾年EUV掃描設備的吞吐量及光源功率發展滯足不前,現在終於見到曙光,且無疑地改變許多與會者的觀點。  

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