專訪KLA-Tencor光罩產品事業部副總裁兼總經理熊亞霖 科磊三大新品提升光罩檢測辨識率

作者: 侯冠州
2016 年 09 月 01 日
為提升10奈米與7奈米晶圓光罩缺陷辨識率,科磊(KLA-Tencor)宣布推出三款先進的光罩檢測系統,分別為Teron 640、Teron SL655和光罩決策中心(RDC),使光罩和積體電路晶圓廠能夠更高效地辨識微影中顯著並嚴重損害良率的缺陷(Defect)。
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

市場版圖丕變 台灣手機代工廠力求突圍

2008 年 09 月 08 日

因應PV搭配儲能系統 逆變器擴增DC-DC模組

2012 年 08 月 04 日

專訪MHL聯盟總裁王貴添 MHL 2.0支援3D影像規格

2012 年 08 月 16 日

寬能隙材料觸發電源革命 量測軟體角色更吃重

2020 年 07 月 06 日

結合AI精準升級 3D列印強化彈性生產優勢

2022 年 09 月 03 日

稀土精鍊門檻被高估 美國技術與產能突圍正在加速

2025 年 11 月 17 日
前一篇
高通/OSIsoft聯手 大聯盟教士隊主場變身智慧棒球場
下一篇
凌華與Wind River建立策略聯盟