專訪KLA-Tencor光罩產品事業部副總裁兼總經理熊亞霖 科磊三大新品提升光罩檢測辨識率

作者: 侯冠州
2016 年 09 月 01 日
為提升10奈米與7奈米晶圓光罩缺陷辨識率,科磊(KLA-Tencor)宣布推出三款先進的光罩檢測系統,分別為Teron 640、Teron SL655和光罩決策中心(RDC),使光罩和積體電路晶圓廠能夠更高效地辨識微影中顯著並嚴重損害良率的缺陷(Defect)。
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