有效降低氮化鉭層電阻 鈷助力先進製程效能提升

作者: 葛裕逢 / 鮑忠興
2020 年 01 月 18 日
隨著人工智慧及大數據時代來臨,晶片也須透過不斷微縮提升效能。面對7奈米(nm)先進製程,如何生產效能更高、耗電更少、面積更小,且符合可靠度要求的晶片,為當今半導體製程的重要課題。
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