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Mentor通過台積電3奈米製程技術認證

發布日期:2020/09/14 關鍵字:MentorTSMC台積電3奈米N3FinFET

Mentor近期宣布旗下多項產品線和工具已獲得台積電(TSMC)最新的3奈米(N3)製程技術認證。

台積電設計建構管理處資深處長Suk Lee表示,此次認證進一步突顯了Mentor為雙方共同客戶以及台積電生態系統所創造的價值。很高興看到一系列Mentor的平台正在不斷通過台積電認證,客戶能夠以此運用最先進的製程技術,在功耗和效能方面取得大幅提升,進而實現成功的晶片設計。

目前已通過台積電N3製程認證的Mentor產品包括Analog FastSPICE平台,該平台可為奈米级類比、射頻(RF)、混合訊號、記憶體和客制化數位電路提供先進的電路驗證。

Mentor還同時擴展了其Xpedition軟體對台積電2.5/3D產品的支援,包括用於設計規劃和網表的Xpedition Substrate Integrator、和用於布局的Xpedition Package Designer,經過增强後的Xpedition Package Designer現可滿足台積電的InFO技術要求。此外,Mentor Calibre實體驗證平台中的3Dstack技術還透過對CoWoS-S的支援,擴展了對台積電「晶粒之間」(inter-die)LVS的支援。

Mentor的IC驗證平台 Calibre nmPlatform也有多項產品獲得了台積電N3和N5製程認證,其中包括Calibre nmDRC和Caliber nmLVS工具套件—用於IC實體和電路驗證sign-off。Calibre在每個新製程上持續改進和開發新功能,同時提供良好的高準確性,可擴展性和周轉時間。如Caliber PERC可靠性平台,能夠對實體布局和網表進行獨特的整合分析,可自動執行複雜的可靠性驗證檢查。同時,Mentor還與台積電合作為ESD(靜電放電)和閂鎖(Latch-Up)驗證提供更加完備的功能。

而Calibre xACT寄生參數提取解決方案—可提供三維FinFET架構所需的高準確度,並協助Mentor和台積電的客戶充分發揮台積電3奈米製程的效能優勢。

Mentor IC EDA執行副總裁Joe Sawicki表示,Mentor和台積電將繼續發揮雙方的合作優勢,為共同客戶提供良好的解決方案。台積電的3奈米製程技術是當前最先進的製程技術,它不僅僅為全球客戶提供了優異的效能和功率效率,同時也再一次向業界證明,摩爾定律迄今依然行之有效。

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