美光(Micron)近日宣布，該公司採用1α(Alpha)製程生產的DRAM產品，已開始在台灣的生產基地量產，並向市場供貨。美光是全球DRAM業者中，第一家將1α製程推向量產的業者，未來該公司還將繼續發展1β(Beta)、1γ(Gamma)、1δ(Delta)製程技術，並會在適當的時間點導入極紫外光(EUV)技術。但至少就目前看來，並無採用EUV的迫切性。
美光執行副總裁暨事業長Sumit Sadana表示，新的1α製程可生產出業界功耗最低的行動 DRAM，讓資料中心、用戶端裝置、消費性商品、工業應用和車用領域的客戶，都能享受到更省電的DRAM，為應用所帶來的好處。與先前基於1z製程DRAM相比，基於1α製程的DRAM，功耗降低15%，密度則大幅提高40%。
此一里程碑進一步鞏固了美光的競爭優勢，美光先前已推出全球最快的GDDR6X繪圖記憶體，176層3D NAND快閃記憶體也已經量產供貨，速度均領先業界。這也是美光自創業以來，首度在DRAM、NAND Flash兩個領域同時取得技術領先優勢。
但美光的技術研發腳步不會停下。在DRAM方面，美光已經開始設想未來10年的技術發展路徑。除了已經量產的1α製程外，1β、1γ與1δ製程，都已經出現在該公司的技術發展路線圖上。
Sadana透露，雖然長期來看，要生產電晶體尺寸更小的DRAM，最終一定得改用EUV微影，但目前EUV的成本仍過於昂貴，且沒有非使用EUV不可的理由。多重曝光(Multi-patterning)等技術，還可以讓美光繼續沿用現有的微影設備一段時間。待EUV技術的成本降低後，導入的時機才會成熟。
美光在台灣的晶圓廠已開始量產使用1α製程的DRAM產品，首批產品是為著重運算需求的客戶提供DDR4記憶體，以及適用於消費性PC的Crucial DRAM產品。美光LPDDR4也已開始向行動客戶送樣進行驗證。美光將在2021年持續推出使用此製程技術的其他新產品。
