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新電子 2022 年 9 月號 438 期

贏向後3奈米

要把電晶體做得更小,曝光技術無疑是關鍵。但光有曝光機,是無法推動先進製程發展的。本期專題刻意不談時下最熱門的EUV,而是環繞在EUV周邊的種種配套材料,以及把先進製程從搖籃推向市場的關鍵–EDA工具的進展,來凸顯半導體產業分工細膩,每個環節都不可或缺的特質。另一方面,先進製程的發展,也讓正在積極落實ESG的半導體產業,遇上了極大的挑戰。越是先進的製程,生產設備越耗電,對材料特性的要求也越嚴苛。但為了追求環境永續,不僅製程的碳足跡要控管,更要改用對環境友善的化學品。這看似難解的矛盾,其實還是有解的。

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