藉助度量目標設計工具 先進記憶體重疊精準度躍升
在微影製程(Lithography)中，由於裝置節點收縮及採用多模式方法，重疊變得更有難度。而重疊規範也更嚴密，因此必須採用更為複雜的重疊控制方法，如高階或逐欄位控制。此外，嚴密的重疊規範開始產生另一個根本性問題︰精準度。重疊誤差主要取決於兩大要素︰一個是測量品質，另一個是表現裝置重疊。對於後者，重疊依據重疊目標而非實際裝置結構測量。本文針對精準度重疊測量展開以下研究︰透過模擬設計最佳目標，使用測量品質指數選取最佳方法，以及與裝置模式重疊的關聯性。
2016 年 01 月 10 日
