滿足MEMS/光學元件生產需求 新一代奈米壓印技術更具競爭力

微影(Lithography)是產生細微圖樣,進而在基板上製造出細微線路或結構不可或缺的製程步驟。除了當下話題性最高的EUV、在半導體製造領域已經應用多年的浸潤式微影或無光罩微影等必須使用光源的微影技術外,還有其他不需要光源,也能產生細微圖樣,甚至直接製造出微結構的微影技術,奈米壓印微影(Nanoimprint...
2020 年 10 月 19 日