先進製程淨化需求增 英特格新型清潔溶液亮相

10奈米以下先進製程帶動過濾、淨化市場需求增加。看好此一商機,英特格(Entegris)宣布推出適用於半導體製程的推出適用於半導體製程的新型後化學機械研磨(post-CMP)清潔溶液–PlanarClean...
2016 年 09 月 13 日

陶氏化學發表先進CMP研磨液

針對化學機械研磨(CMP)需求,陶氏化學旗下的陶氏電子材料近日推出OPTIPLANE研磨液系列產品。OPTIPLANE研磨液系列是為了滿足客戶對先進半導體研磨液的需求而推出,能以有競爭力的成本滿足客戶減少缺陷和其他更嚴格的規格要求,適合用來製造新一代先進半導體裝置。 ...
2016 年 07 月 29 日