微應力測試突破先進封裝瓶頸(1)

為了達到垂直整合的目的,多層薄膜堆疊結構已被大量地運用在半導體製程當中,並且遭遇各種技術瓶頸。為了克服這些瓶頸,奈米壓痕測試儀及奈米刮痕測試儀為兩個重要的分析工具。 在半導體積體電路朝向尺寸微小化和功能極大化的發展方向上,先進封裝技術已成為提高晶片性能的重要途徑之一。然而,為了達到垂直整合的目的,多層薄膜堆疊結構已被大量地運用在製程當中。由於不同材料之間的機械特性無法相互搭配,以及製程中產生的熱機械應力,導致的各種失效模式亦接踵而來。為了克服這些瓶頸,對於材料機械特性的掌握變得至關重要,在微米及奈米尺度的世界中,奈米壓痕測試儀及奈米刮痕測試儀為兩個重要的分析工具。除了可用來分析材料的機械特性,以及多層結構中的附著能力,亦可作為區域化應力的工具,搭配後續影像分析技術,如掃描式電子顯微鏡(SEM)、雙束聚焦離子顯微鏡(DB-FIB)或穿透式電子顯微鏡(TEM)可更進一步地分析內部結構變化,找出造成故障的脆弱點位置。...
2023 年 10 月 23 日

微應力測試突破先進封裝瓶頸(2)

為了達到垂直整合的目的,多層薄膜堆疊結構已被大量地運用在半導體製程當中,並且遭遇各種技術瓶頸。為了克服這些瓶頸,奈米壓痕測試儀及奈米刮痕測試儀為兩個重要的分析工具。 銅柱凸塊機械特性分析 (承前文)為了滿足終端產品輕薄短小的需求,晶片訊號處理輸入/輸出需求數量不斷增加,這意謂著晶片封裝中的引線節點數密...
2023 年 10 月 23 日