專訪ASML研發副總裁Jos Benschop

歷經將近20年的發展，極紫外光(EUV)微影技術終於在相關業者的努力下，穩步邁向大量商用階段。尤其是近期在光學鏡頭與光阻劑(Photoresist)的發展取得重大斬獲，更加確立EUV在下世代微影技術的重要角色。不過，「革命尚未成功」，眼前還有最後一道難題--光罩缺陷檢測(Mask...
2009 年 11 月 23 日

異質整合當道　封裝技術成半導體顯學

封裝技術已逐漸凌駕晶圓製程技術，成為未來半導體功能整合時不可或缺的關鍵能力。尤其在超越摩爾定律(More than Moore)與異質整合等新發展思潮的帶動下，包括三維晶片(3D IC)與矽穿孔(TSV)等先進封裝技術更是半導體製造商與IC設計業者戮力布局的新重點。 ...
2009 年 10 月 08 日

麥康寧跨足電子封裝光罩市場 力推兼具彈性/穩定性/生產力的雷射圖形掃描機

繼搶攻顯示器市場後，全球雷射光罩圖掃描機供應商麥康寧(Micronic)再推出FPS5100雷射圖形掃描機，以具彈性、穩定性及生產力的豐富特性，跨足電子封裝光罩市場，並同時滿足被動矩陣扭轉向列(TN)/超扭轉向列(STN)液晶顯示等應用要求。 ...
2006 年 08 月 28 日

精準雷射圖形產生器需求大增 Micronic致力提昇光罩製造成本效能

衡諸現階段的電子產業，投資金額最為龐大的領域當屬LCD面板及半導體製造，此兩個部分的製程皆需使用光罩(Photo Mask)。光罩的製造則需動用精準雷射圖形產生器(Laser Pattern Generator)，其核心技術為光刻微影技術(Microlithography)...
2005 年 07 月 14 日
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