CMOS製程微縮/異質整合齊頭並進 摩爾定律無限延伸

藉由在微影技術與CMOS材料上的突破,以及在多項策略性應用領域的技術創新,IMEC在先進微電子領域的技術成果再度向前邁進一大步,並讓半導體的功能整合發展超越摩爾定律的想像空間。
2008 年 11 月 28 日

雙重曝光技術護航 ArF浸潤式微影穩居主流

在雙重曝光技術與相關設備漸趨成熟的加持下,原本面臨物理極限的193奈米浸潤式微影因而得以延伸應用至32奈米與22奈米製程節點,成為下一世代微影製程的主流技術。
2008 年 09 月 01 日