DRAM製程進入1α世代　美光：不急於導入EUV

美光(Micron)近日宣布，該公司採用1α(Alpha)製程生產的DRAM產品，已開始在台灣的生產基地量產，並向市場供貨。美光是全球DRAM業者中，第一家將1α製程推向量產的業者，未來該公司還將繼續發展1β(Beta)、1γ(Gamma)、1δ(Delta)製程技術，並會在適當的時間點導入極紫外光(EUV)技術。但至少就目前看來，並無採用EUV的迫切性。...
2021 年 02 月 01 日

ASML再獲23台訂單　EUV走入晶片製程腳步加快

為實現更高效、更低功耗的晶片，以滿足人工智慧(AI)、自動駕駛、車聯網、5G等創新應用，半導體產業對極紫外光(EUV)設備需求持續加。半導體微影技術廠商艾司摩爾(ASML)近日便表示，該公司不僅於2019年第三季完成7台EUV系統出貨，且又再度接到23台EUV系統訂單，不僅創下單季最高訂單金額紀錄，也意味著邏輯和記憶體晶片客戶均積極將EUV系統導入晶片量產。...
2019 年 10 月 17 日

20奈米製程聲聲催　EUV光罩/晶圓檢測發展趕進度

在先進製程邁入20奈米之際，半導體設備商正積極透過策略結盟方式發展EUV光罩缺陷檢測系統，以加速實現EUV技術應用於20奈米節點的目標；另一方面，擁有更高晶圓缺陷檢測精準度與吞吐量的電子束晶圓缺陷檢視設備，需求也逐漸看漲。
2011 年 10 月 03 日

插旗EUV版圖　KLA/SEMATECH締結盟約

為實現零缺陷的極紫外光(EUV)光罩，光罩缺陷檢測系統不可或缺。有鑑於EUV前景可期，科磊(KLA-Tencor)正試圖透過與SEMATECH策略結盟發展光罩缺陷檢測系統，以加速EUV技術成熟，並藉此卡位EUV市場先機。 ...
2011 年 08 月 18 日
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