ASML再獲23台訂單 EUV走入晶片製程腳步加快

為實現更高效、更低功耗的晶片,以滿足人工智慧(AI)、自動駕駛、車聯網、5G等創新應用,半導體產業對極紫外光(EUV)設備需求持續加。半導體微影技術廠商艾司摩爾(ASML)近日便表示,該公司不僅於2019年第三季完成7台EUV系統出貨,且又再度接到23台EUV系統訂單,不僅創下單季最高訂單金額紀錄,也意味著邏輯和記憶體晶片客戶均積極將EUV系統導入晶片量產。...
2019 年 10 月 17 日

先進製程推動EUV需求 ASML加速布局

10奈米及7奈米等先進製程節點帶動極紫外線(EUV)設備持續成長,看好未來潛在商機,半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)也加速布局腳步,提升EUV設備出貨量,計畫於2018年達到出貨20台,2019年出貨30台以上EUV設備的目標。...
2018 年 04 月 30 日

ASML:量產型EUV機台2015年就位

極紫外光(EUV)微影技術將於2015年突破量產瓶頸。傳統浸潤式微影技術在半導體製程邁入1x奈米節點後將面臨物理極限,遂使EUV成為產業明日之星。設備供應商艾司摩爾(ASML)已協同比利時微電子研究中心(IMEC)和重量級晶圓廠,合力改良EUV光源功率與晶圓產出速度,預計2015年可發布首款量產型EUV機台。 ...
2013 年 08 月 19 日

行動產品汰換快速 半導體設備業購併潮再現

行動裝置已取代PC成為半導體產業成長主要動能,然而其市場和產品規格快速變動的特性,也為半導體製造商帶來極大挑戰,因此上游設備供應商無不積極進行縱向與橫向整併,以有效整合研發資源並擴展技術能量,協助半導體廠快速回應市場需求。
2013 年 03 月 25 日