2021年12吋晶圓廠設備投資將突破600億美元

根據國際半導體產業協會(SEMI)的數據,在2019年經濟衰退後的2020年,12吋晶圓廠設備支出將在2020年緩慢恢復,並在2021年創下新的歷史高點,達到600億美元,僅在2022年再次小幅衰退並在2023年再創歷史最高點。...
2019 年 09 月 09 日

20奈米製程聲聲催 EUV光罩/晶圓檢測發展趕進度

在先進製程邁入20奈米之際,半導體設備商正積極透過策略結盟方式發展EUV光罩缺陷檢測系統,以加速實現EUV技術應用於20奈米節點的目標;另一方面,擁有更高晶圓缺陷檢測精準度與吞吐量的電子束晶圓缺陷檢視設備,需求也逐漸看漲。
2011 年 10 月 03 日

搶攻20奈米缺陷檢測 科磊eDR-7000上陣

值此晶圓廠先進製程邁入20奈米以下的世代交替之際,讓更高晶圓缺陷檢測精準度與速度的電子束(e-beam)晶圓缺陷檢視設備重要性劇增。也因此,科磊(KLA-Tencor)瞄準20奈米(nm)及以下製程節點發表eDR-7000,將為挹注2012年可觀營收貢獻的利器。 ...
2011 年 08 月 17 日

光電/類比領頭 2011年半導體產值成長8%

光電及類比元件將是2011年全球半導體產值成長最重要的兩大引擎。市場研究機構Databeans預估,2011年,光電與類比半導體的產值將分別較2010年攀升10%,增長率為各類半導體元件之冠,並使得2011年半導體產值得以呈現8%的成長動能。 ...
2011 年 01 月 20 日