陶氏化學發表先進CMP研磨液

針對化學機械研磨(CMP)需求,陶氏化學旗下的陶氏電子材料近日推出OPTIPLANE研磨液系列產品。OPTIPLANE研磨液系列是為了滿足客戶對先進半導體研磨液的需求而推出,能以有競爭力的成本滿足客戶減少缺陷和其他更嚴格的規格要求,適合用來製造新一代先進半導體裝置。 ...
2016 年 07 月 29 日