為量產10nm製程鋪路 ASML攜手IMEC建置APC

艾司摩爾(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設立先進曝光中心(Advanced Patterning Center, APC),助力半導體產業突破10奈米(nm)以下先進奈米曝光製程技術關卡,讓微影(Lithography)技術及其設備更臻成熟,加速製程微縮技術的商用化。 ...
2013 年 10 月 09 日