諾發系統開啟32奈米以下微影圖案化製程

諾發系統(Novellus)開發一系列的ashable硬式蝕刻光罩(AHM)薄膜,可達到比目前業界使用的非晶碳薄膜高出百分之二十五的蝕刻選擇性。這種高度選擇性和透明(HST)的AHM薄膜,搭配諾發的專利晶片洗邊技術(EBR),已證明可改善70%以上的晶片良率。 ...
2009 年 12 月 07 日