193nm微影術應用 擴展至10奈米以下

應用材料(Applied Materials)日前推出Applied Centura Tetra Z光罩蝕刻系統,為新一代光微影術光罩蝕刻技術,能讓多重曝影尺寸縮小至10奈米(nm)以下。新機台係將應用材料的Tetra平台功能進行強化,以並提供所需的線寬(CD)參數「埃(Angstrom)」等級光罩精密度,滿足未來邏輯與記憶體裝置嚴苛的圖案製程規格。 ...
2015 年 04 月 29 日