艾司摩爾與比利時微電子研究中心簽署五年策略夥伴協議

艾司摩爾(ASML)與比利時微電子研究中心(imec)宣布,雙方已經簽署一項新的策略夥伴協議,聚焦研究與永續發展。 該協議為期五年,目標是透過集結雙方各自的知識和專業,在兩大領域提供有價值的解決方案。首先,開發推進半導體產業的解決方案;其次,開發聚焦永續創新的研究倡議。...
2025 年 03 月 14 日

採用TEM分析晶體結構 AlGaN磊晶光學性質再強化

用氮化鋁鎵(AlGaN)磊晶為主要材料製造的深紫外光(Deep ultraviolet, DUV)發光二極體(Light-emitting diodes, LEDs)元件,其優異的光學性質和體積小的特性,逐漸取代水銀燈和氙氣燈,成為攜帶型生化檢查系統、淨水器、紫外光微影曝光機等的光源[1-3]。藉由各種改善磊晶層結構品質的方法,可以進一步增進現階段氮化鋁鎵深紫外光發光二極體的光學性質[4,...
2022 年 12 月 29 日

先進製程推動EUV需求 ASML加速布局

10奈米及7奈米等先進製程節點帶動極紫外線(EUV)設備持續成長,看好未來潛在商機,半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)也加速布局腳步,提升EUV設備出貨量,計畫於2018年達到出貨20台,2019年出貨30台以上EUV設備的目標。...
2018 年 04 月 30 日

先進製程競爭加劇 EUV提前商用有譜

受到邏輯晶圓廠與儲存型快閃(NAND Flash)記憶體製造商大舉加碼先進製程的激勵,微影(Lithography)掃描機大廠艾司摩爾(ASML)與極紫外光(EUV)雷射光源供應商西盟(Cymer)均已緊鑼密鼓展開量產用EUV微影掃描機台的相關研發工作,預計2012年可望率先用於22奈米製程節點的商用生產。 ...
2010 年 12 月 13 日