衝刺前段測試市場 愛德萬晶圓檢測新利器上陣

愛德萬測試(Advantest)積極拓展新市場版圖。看好20奈米以下先進製程對晶圓檢測設備的需求,愛德萬測試推出全新多視角掃描式電子顯微鏡(MVM-SEM),期挾更高精準度與吞吐量(Throughput)的效能表現,滿足晶圓廠日益嚴苛的晶圓檢測要求,進而將業務觸角由原本半導體製程後段測試的領域,擴張至前段市場。 ...
2015 年 09 月 03 日

FinFET複雜度破表 半導體設備商投資不手軟

鰭式電晶體(FinFET)製程將帶動新一波半導體設備投資熱潮。由於FinFET導入立體式電晶體結構,使得晶圓製程中的蝕刻和缺陷檢測複雜度較以往大幅攀升,因此包括科林研發(Lam Research)和東京威力科創(TEL)等半導體設備大廠已積極加碼研發支出,甚至發動購併攻勢,以強化設備性能,滿足FinFET製程要求。 ...
2013 年 08 月 08 日

20奈米製程聲聲催 EUV光罩/晶圓檢測發展趕進度

在先進製程邁入20奈米之際,半導體設備商正積極透過策略結盟方式發展EUV光罩缺陷檢測系統,以加速實現EUV技術應用於20奈米節點的目標;另一方面,擁有更高晶圓缺陷檢測精準度與吞吐量的電子束晶圓缺陷檢視設備,需求也逐漸看漲。
2011 年 10 月 03 日

搶攻20奈米缺陷檢測 科磊eDR-7000上陣

值此晶圓廠先進製程邁入20奈米以下的世代交替之際,讓更高晶圓缺陷檢測精準度與速度的電子束(e-beam)晶圓缺陷檢視設備重要性劇增。也因此,科磊(KLA-Tencor)瞄準20奈米(nm)及以下製程節點發表eDR-7000,將為挹注2012年可觀營收貢獻的利器。 ...
2011 年 08 月 17 日

延續摩爾定律商機 3D IC/先進製程缺一不可

今年國際半導體展,除涵蓋LED製程、MEMS、綠色製程與二手設備外,最受關注的熱門焦點,莫過於3D IC的發展,尤其在矽穿孔技術日趨成熟後,3D IC商用腳步也逐漸加快,可望在先進製程的搭配下,實現更高的晶片整合。
2010 年 10 月 07 日