Fractilia宣布推出Fractilia堆疊量測方案(Fractilia Overlay Package)，能夠為Fractilia的MetroLER與FAME增加全新堆疊量測與分析功能。Fractilia產品結合獨家專利的反向線掃瞄模型技術(FILM)與真正的計算量測，是唯一經過驗證的晶圓製造廠解決方案，可以對所有主要隨機效應提供高精準度的量測，而這也是先進製程上最大且單一的微影圖形(Patterning)錯誤來源。Fractilia目前正與多家晶片製造商合作，使用全新的Fractilia堆疊量測方案為掃描式電子顯微鏡(SEM)的疊對影像數據進行分析。...

在先進半導體製程中，隨機性(Stochastics)微影圖案誤差的量測與控制，已經成為一項不可忽視的課題。致力於為隨機性微影圖案誤差提供量測跟控制解決方案的新創公司Fractilia，近日發表了最新版本的Fractilia自動化量測平台(FAME)，讓半導體晶圓廠得以管控在極紫外光微影(EUV)製程中，因隨機性誤差而產生的良率問題。隨機性誤差是微影圖案(Patterning)製程中，最主要的錯誤來源。晶圓廠在FAME的協助下，能更快做出更好的決策，以解決隨機性微影圖案誤差這個新型良率殺手，並拿回對先進微影圖案製程的控制權，同時提升元件良率與曝光機與蝕刻機的生產力。...