邏輯/DRAM齊頭並進 imec展示High-NA EUV圖形化研究成果

比利時微電子研究中心(imec)在荷蘭費爾德霍溫與艾司摩爾(ASML)合作建立的高數值孔徑(High-NA)極紫外光(EUV)微影實驗室中,利用數值孔徑0.55的極紫外光曝光機,發表了曝光後的圖形化元件結構。在單次曝光後,9奈米和5奈米(間距19奈米)的隨機邏輯結構、中心間距為30奈米的隨機通孔、間距為22奈米的二維特徵,以及間距為32奈米的動態隨機存取記憶體(DRAM)專用布局全部成功成形(圖1~圖4),採用的是由imec與其先進圖形化研究計畫夥伴所優化的材料和基線製程。透過這些研究成果,imec證實該微影技術的生態系統已經準備就緒,能夠實現高解析度的High-NA...
2024 年 08 月 14 日

大規模量子電腦新進展 imec成功降低矽基量子位元電荷雜訊

比利時微電子研究中心(imec)近日宣布,他們在12吋晶圓的矽基量子點自旋量子位元技術上取得重大進展,成功將1Hz頻率下的平均電荷雜訊降低至0.6µeV/√Hz,這是目前在12吋晶圓相容製程中所達到的最低值。這一成果顯示,12吋晶圓的量子位元製程已經成熟,未來有望實現大規模量子電腦。...
2024 年 08 月 06 日

先進封裝大行其道 ESD保護更顯重要(1)

ESD是導致電子產品失效故障的重要因素,也會對半導體元件造成不可回復的損害。隨著半導體封裝朝2.5D、3D發展,元件內部互連密度大幅增加,如何避免ESD損害元件內部的I/O,造成晶片失效,變成一個需要認真面對的課題。...
2024 年 07 月 19 日

先進封裝大行其道 ESD保護更顯重要(2)

ESD是導致電子產品失效故障的重要因素,也會對半導體元件造成不可回復的損害。隨著半導體封裝朝2.5D、3D發展,元件內部互連密度大幅增加,如何避免ESD損害元件內部的I/O,造成晶片失效,變成一個需要認真面對的課題。...
2024 年 07 月 19 日

UV光子晶片問世 顯微技術革新在望(1)

紫外線波長能夠解決顯微技術等光學應用對提升解析度和特異性(Specificity)的根本需求。由於紫外線的波長較短,理論上,顯微技術可以藉此獲得相對於傳統可見光顯微技術還要微小的粒子和細胞成像。然而,為紫外線開發的大型光學元件非常罕見且昂貴,還不能提供高解析度成像所需的紫外光束操控能力。把所有的關鍵光學功能都整合在一顆晶片上的光子晶片(PIC)技術,可以提供勝過以往的紫外光控制和操控能力。...
2024 年 04 月 22 日

UV光子晶片問世 顯微技術革新在望(2)

紫外線波長能夠解決顯微技術等光學應用對提升解析度和特異性(Specificity)的根本需求。由於紫外線的波長較短,理論上,顯微技術可以藉此獲得相對於傳統可見光顯微技術還要微小的粒子和細胞成像。然而,為紫外線開發的大型光學元件非常罕見且昂貴,還不能提供高解析度成像所需的紫外光束操控能力。把所有的關鍵光學功能都整合在一顆晶片上的光子晶片(PIC)技術,可以提供勝過以往的紫外光控制和操控能力。...
2024 年 04 月 22 日

矽光子技術新突破 imec展示32通道矽基波長濾波器

在近日於美國聖地牙哥舉行的光學網路暨通訊會議(OFC)上,比利時微電子研究中心(imec)發表了與矽基分波多工器(WDM)有關的一項重大性能進展。一款具備低損耗與高調變效率的緊湊型32通道矽基波長濾波器首次亮相,成功把收發訊號的波長通道數量增加至現有商用收發器的4倍。此次展示的性能將能持續擴展新一代矽光子收發器的頻寬密度和功率效率,滿足高性能人工智慧(AI)或機器學習(ML)運算叢集應用對短距離光通訊連接的需求。  ...
2024 年 03 月 26 日

引領設計路徑探尋 imec推出首款2奈米製程設計套件

比利時微電子研究中心(imec)於日前舉行的2024年IEEE國際固態電路會議(ISSCC)上,發表了一款開放式製程設計套件(PDK),該套件配備一套由EUROPRACTICE平台提供的共訓練程式。利用這款套件,將能透過imec開發的2奈米技術來進行虛擬數位設計,包含晶背供電網路。此套件將加裝於EDA工具套件,例如益華電腦(Cadence...
2024 年 03 月 13 日

奈米井場效電晶體問世 基因/蛋白質檢測更上層樓

如何提高基因定序的速度,是當前基因定序領域最主要的議題,也是能否將此技術進一步擴大應用至蛋白質檢測的關鍵。奈米井場效電晶體的出現,讓基因定序技術的發展,跨過了一座新的里程碑。 自從人類基因體研究計畫小組在2003年首次完成人類基因體定序後,高通量的基因定序技術不斷出現驚人的進展。在COVID-19新冠疫情期間,DNA測試及DNA定序技術在診斷、測試和研究新型冠狀病毒(SARS-CoV-2)的過程中,扮演著重要角色,也對整個世界發揮了舉足輕重的影響力。在此同時,DNA掃描的成本也從以往的上億美元,跌到如今的1,000美元左右,為非侵入性產前檢測(NIPT)等需要成本效益的應用,提供了普及的條件。...
2024 年 02 月 20 日

評估、改良、顛覆三部曲 晶片製造邁向淨零排放(1)

考量到對氣候變遷的憂患意識持續高漲,全球各地的科技公司都在加速投入各自的供應鏈和產品,以達到碳中和。為加速達成這個目標,半導體製造業除了採用自上而下的碳盤查方法外,還必須導入由下而上的模型,以獲得全面的洞見。...
2024 年 01 月 30 日

評估、改良、顛覆三部曲 晶片製造邁向淨零排放(2)

考量到對氣候變遷的憂患意識持續高漲,全球各地的科技公司都在加速投入各自的供應鏈和產品,以達到碳中和。為加速達成這個目標,半導體製造業除了採用自上而下的碳盤查方法外,還必須導入由下而上的模型,以獲得全面的洞見。...
2024 年 01 月 30 日

imec/三井化學推動EUV奈米碳管光罩護膜商用

比利時微電子研究中心(imec)攜手三井化學共同宣布,為了推動針對極紫外光(EUV)微影應用的奈米碳管(CNT)光刻薄膜技術商業化,雙方正式建立策略夥伴關係。 此次合作,三井化學將把imec根據奈米碳管所研發的創新光罩護膜技術,整合至三井化學的光刻薄膜技術,目標是實現能夠全面投產的規格,預計將在2025~2026年導入高功率的極紫外光(EUV)系統。此次簽約於2023...
2023 年 12 月 25 日