默克推環保光阻去除劑材料新品

默克近日宣布推出用於光刻製程的全新系列環保化學品,此產品藉由默克在半導體製造先進材料方面的成熟專業知識,提供了關鍵解決方案。AZ Remover 880光阻去除劑是默克採用全新配方、非基於會危害環境的NMP(N-甲基吡咯烷酮)化學品系列中的第一款產品,可滿足5G和先進晶圓級封裝製程技術的需求,並克服掀離(Lift-Off)製程中的線寬縮小的極限,以及良率和成本的挑戰。...
2018 年 09 月 19 日