多重曝光微影邁入商用 ASML首部機台正式出貨

多重曝光微影(Multi-patterning Lithography)技術發展跨入新的里程碑。半導體微影設備大廠艾司摩爾(ASML)宣布,首部支援多重曝光技術的浸潤式微影機台TWINSCAN NXT:1980Di,無論疊對(Overlay)精準度或對焦一致性表現,皆已能滿足下世代邏輯和動態隨機存取記憶體(DRAM)的先進製程要求,日前已正式出貨。 ...
2015 年 10 月 01 日