先進製程淨化需求增 英特格新型清潔溶液亮相

10奈米以下先進製程帶動過濾、淨化市場需求增加。看好此一商機,英特格(Entegris)宣布推出適用於半導體製程的推出適用於半導體製程的新型後化學機械研磨(post-CMP)清潔溶液–PlanarClean...
2016 年 09 月 13 日