Stochastics成EUV製程缺陷主因 新創公司Fractilia提解方
在先進半導體製程中，隨機性(Stochastics)微影圖案誤差的量測與控制，已經成為一項不可忽視的課題。致力於為隨機性微影圖案誤差提供量測跟控制解決方案的新創公司Fractilia，近日發表了最新版本的Fractilia自動化量測平台(FAME)，讓半導體晶圓廠得以管控在極紫外光微影(EUV)製程中，因隨機性誤差而產生的良率問題。隨機性誤差是微影圖案(Patterning)製程中，最主要的錯誤來源。晶圓廠在FAME的協助下，能更快做出更好的決策，以解決隨機性微影圖案誤差這個新型良率殺手，並拿回對先進微影圖案製程的控制權，同時提升元件良率與曝光機與蝕刻機的生產力。...
2022 年 03 月 31 日
