功耗降十倍 ULV製程催生下世代物聯網SoC

超低電壓(ULV)製程將成物聯網發展的關鍵技術。半導體廠除加緊投入先進奈米製程外,亦已積極開發超低電壓製程;相較於現今電壓約1伏特(V)的標準製程,超低電壓製程可降至0.7或0.3~0.4伏特,讓系統單晶片(SoC)動態功耗縮減一半甚至十分之一,以滿足物聯網應用對更低耗電量的要求。 ...
2014 年 11 月 06 日