德州儀器(TI)宣布其氮化鎵(GaN)技術和 C2000即時微控制器(MCU)，輔以台達長期耕耘之電力電子核心技術，為資料中心開發設計高效、高功率的企業用伺服器電源供應器(PSU)。與採用傳統架構的企業伺服器電源供應器相比，台達研發的伺服器電源供應器功率密度可提高80%，效率提升1%。根據能源與氣候政策公司能源創新(Energy Innovation)1的估計，效率每改善1%，等於每座資料中心可節省1百萬瓦(或800戶家庭用電)的總系統成本。
台達為全球客戶提供電源管理與散熱解決方案，同時也是AC-DC、DC-DC與DC-AC電源系統的領導廠商，產品應用範圍廣泛，包括資通訊、電動車充電與工業電源等。TI多年來致力於半導體和電腦相關技術，投入氮化鎵技術的開發、應用已長達十年，更提供 C2000 微控制器等即時控制解決方案，是台達長期合作的重要夥伴。此次TI利用創新的半導體製程製造矽基氮化鎵(GaN-on-silicon)技術與積體電路，協助台達等公司打造差異化應用，提升全球資料中心電源效率。
德州儀器高壓電源事業部副總裁Steve Lambouses表示，德州儀器致力於透過半導體技術使電子產品的價格更加實惠，讓世界更加美好。我們的氮化鎵技術將效率更高、體積更小且更為可靠的解決方案推升至了全新境界。除了投資技術發展之外，TI 對內更是強化製造生產以便為台達以及其他客戶等提供支援，同時也能夠迅速擴展氮化鎵等新興技術的規模。
台達電源及系統事業群(PSBG)副總裁暨總經理尹鏇博表示，台達多年來專注於提供高能源效率的產品與解決方案，與夥伴及客戶密切合作，以降低碳足跡。這也促使我們長期與 TI 等業界領先公司合作，持續研發並應用新一代技術。氮化鎵已突破研發門檻，從未來科技轉變為目前可採用的技術，將為電源供應系統帶來新的設計方式，並提高產品效能和功率，尤其適合伺服器電源供應器。我們的目標是使能源效率超越 98%、功率密度突破每立方英寸 100 瓦特（W/inch3）。
