寬能隙半導體技術趨勢暨產業應用高峰論壇
2025年6月12日(四) 09:45~16:30

在AI資料中心、5G/6G、電動車與再生能源等高科技應用推動下,產業對高能效與高電壓架構的需求持續攀升,寬能隙功率半導體如SiC與GaN,正快速成為推動未來科技發展的關鍵核心。這類元件具備高速、高耐壓、低耗能等特性,成為替代傳統矽元件的最佳設計選擇,帶動電力電子技術的革新。然而,在實際導入產品設計與量產時,開發者仍面臨驅動設計、封裝散熱、EMI干擾與可靠度驗證等技術挑戰,亟需更深入的技術交流與產業合作。

為協助台灣產業更有效掌握寬能隙功率半導體的設計要領與產業脈動,本活動匯集產業鏈上中下游代表;上午場將由技術專家與指標廠商深度剖析市場需求與技術演進趨勢;下午場則聚焦於應用開發與產業交流,並安排一對一媒合,促進供應端與應用端之間的技術對接與合作契機。探討內容涵蓋從材料、晶片、封裝、模組到系統應用等完整視角,是電力電子、能源轉換與高能效應用領域從業者不容錯過的重要科技盛會。

上午 -【技術趨勢分場】議程

時間議題演講者
09:15~09:45報到與開場
09:45~10:15新轉折、新契機:寬能隙半導體產業與GaN/SiC技術變革解析
敬請期待
10:15~10:45
GaN功率元件技術演進與產業應用新趨勢
敬請期待
10:45~11:00中場休息
11:00~11:30第三代半導體時代的模組化策略:從分立元件到系統級封裝的演變敬請期待
11:30~12:00產業交流座談
12:00~會後交流&上午場結束

*主辦單位保留變更議程權利,請以活動當天為準,議程變更恕不另行通知。

下午 -【產業鏈建構與合作分場】議程

時間議題演講者
13:00~13:30報到與開場
13:30~13:35主辦單位致詞
智慧電子產業計畫推動辦公室
13:35~14:05
高頻GaN元件如何重塑AI PC與AI伺服器電源架構德州儀器(TI)
14:05~14:35解鎖SiC高效電力應用新藍海積亞半導體 總經理 王培仁
14:35~15:05超接面SiC MOSFET的技術突破與應用前景碳矽電子 創辦人 李坤彥
15:05~15:35產業交流座談-電動車、再生能源、AI伺服器:哪些應用將成為寬能隙半導體的黃金市場?
15:35~16:00媒合會(邀請制)
16:00~16:30會後交流

*主辦單位保留變更議程權利,請以活動當天為準,議程變更恕不另行通知。

講師陣容

王培仁
王培仁

積亞半導體 總經理

李坤彥
李坤彥

碳矽電子 創辦人

主辦單位
新電子

合作夥伴

寬能隙半導體技術趨勢暨產業應用高峰論壇
  • 活動時間:2025年6月12日(四) 09:45~16:30
  • 活動地點:集思北科大會議中心
  • 地  址:台北市大安區忠孝東路三段197號旁億光大樓2樓(忠孝東路與建國南路交叉口)

  • 如有活動相關疑問或報名網頁操作問題,請來信至:[email protected]

本活動採預先線上報名,不開放現場報名。報名完成後將由主辦單位進行出席資格審核,與主題及屬性比較符合者為優先考量。

通過審核者,將於活動前兩周陸續以電子郵件方式寄發報到通知函和簡訊通知,以示您的出席資格。 

【技術趨勢分場】將於09:15開放報到,請盡早完成報到手續,主辦單位依現場報到完成順序安排座位,額滿為止。

參加【產業鏈建構與合作分場】將於13:00開放報到,為加速您的報到流程,請務必記得攜帶您的公司名片1張,並請出示報到通知Email或報到簡訊。

場地額滿後將視現場狀況開放入場,主辦單位保有開放進場與否之權利。

本活動不提供紙本講義,主辦單位會後依講師意願提供電子檔下載,並於活動結束兩周內發送E-mail通知。

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